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VCD高真空箱的操作與維護

更新時間:2024-08-13   點擊次數(shù):344次

VCD高真空箱主要應(yīng)用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產(chǎn)單位。集公司多年在真空設(shè)備成功經(jīng)驗,通過不斷潛心研究,突破傳統(tǒng)技術(shù)創(chuàng)造性解決了精密高真空設(shè)備的控制難點,能精準(zhǔn)控制133Pa以下的真空度。

VCD高真空箱作為一種集高科技與精密制造于一體的設(shè)備,本文將從VCD高真空箱的基本原理、技術(shù)特點、應(yīng)用領(lǐng)域、操作維護以及技術(shù)參數(shù)等方面進行深入探討,以期為讀者全面解析這一高科技產(chǎn)物的奧秘。

高真空烤箱.jpg

 一、VCD高真空箱的基本原理

VCD高真空箱,全稱為“超高真空腔體干燥箱"(Vacuum Chamber Dryer,簡稱VCD),其核心在于通過高度密封的腔體結(jié)構(gòu)和先進的真空泵系統(tǒng),將腔體內(nèi)部的氣體分子抽出,達(dá)到極低的壓力環(huán)境,即高真空狀態(tài)。在這種狀態(tài)下,物質(zhì)的物理和化學(xué)性質(zhì)會發(fā)生顯著變化,如沸點降低、氣體分子運動減緩等,為材料處理、樣品分析、電子元器件的真空封裝等提供了理想的環(huán)境條件。

 二、技術(shù)特點

1. 超高真空度:VCD高真空箱能夠?qū)崿F(xiàn)低至10^-6 Pa甚至更低的真空度,為需要極低氣壓環(huán)境的實驗和生產(chǎn)提供了保障。
2. 溫度控制精準(zhǔn):配備先進的加熱與冷卻系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)對腔體內(nèi)溫度的精確控制,滿足不同材料和工藝的需求。
3. 密封性能:采用高性能密封材料和技術(shù),確保腔體在長時間運行過程中保持高真空狀態(tài)。
4. 自動化程度高:集成先進的控制系統(tǒng),支持遠(yuǎn)程操作和自動化程序控制,提高了工作效率和實驗精度。
5. 多功能性:可根據(jù)用戶需求配置多種附件,如氣體注入系統(tǒng)、樣品觀察窗、真空度監(jiān)測儀等,滿足多樣化的實驗需求。

 三、應(yīng)用領(lǐng)域

1. 材料科學(xué)研究:在材料合成、改性、表面處理等方面,VCD高真空箱為研究人員提供了無氧化、無污染的實驗環(huán)境,有助于探索材料的新性質(zhì)和新應(yīng)用。
2. 半導(dǎo)體制造:在芯片制造過程中,VCD高真空箱被用于晶圓清洗、干燥、光刻膠的真空涂覆等關(guān)鍵步驟,確保產(chǎn)品的質(zhì)量和良率。
3. 電子元件封裝:對于高精密的電子元件,如MEMS(微機電系統(tǒng))器件,VCD高真空箱是實現(xiàn)真空封裝的重要設(shè)備,可有效防止元件內(nèi)部氧化和污染。
4. 航空航天:在航天器的材料測試、零部件的真空熱處理等方面,VCD高真空箱發(fā)揮著不可替代的作用,為航天器的安全性和可靠性提供了有力支持。

 四、操作與維護

操作VCD高真空箱需嚴(yán)格遵守操作規(guī)程,確保設(shè)備的安全穩(wěn)定運行。在啟動前,需檢查各部件是否完好,確認(rèn)真空泵、加熱系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等處于正常狀態(tài)。操作過程中,需密切監(jiān)控真空度和溫度變化,及時調(diào)整參數(shù)以確保實驗或生產(chǎn)的順利進行。維護方面,定期對設(shè)備進行清潔、檢查密封件的老化情況、更換濾芯等保養(yǎng)工作,是延長設(shè)備使用壽命、保證性能穩(wěn)定的關(guān)鍵。

 五、技術(shù)參數(shù)

規(guī)格型號: HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

內(nèi)箱尺寸(mm) 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm): 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范圍: 100000Pa1Pa

控制方式: 真空計顯示或PLC觸摸屏控制

結(jié)構(gòu): 一體式結(jié)構(gòu)(內(nèi)置真空泵)或分體式(外置真空泵)

內(nèi)箱材質(zhì): SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì): SECC鋼板高級烤漆處理

使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZAC 三相 五線 380V 50HZ

選加功能: 加熱功能(RT+10℃~200℃)

真空泵: 另購(可用戶自備)



綜上所述,VCD高真空箱作為現(xiàn)代科技領(lǐng)域的重要設(shè)備之一,其技術(shù)特點、應(yīng)用領(lǐng)域、操作維護以及未來發(fā)展趨勢都值得我們深入了解和關(guān)注。隨著科技的不斷進步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展,相信VCD高真空箱將在更多領(lǐng)域發(fā)揮更大的作用,為人類社會的進步和發(fā)展貢獻(xiàn)更多力量。

 


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